超高純度ガス小型精製器 GP/GPFシリーズ

- ユースポイントにおいて、不活性ガスや特殊ガス中に含まれる水分・酸素・ハイドロカーボンなどの不純物を、条件により最大1PPB以下まで除去します。
- 内蔵の粗取り用フィルターメディアには全てSUS316Lを標準として使用しております。腐蝕によるパーティクルの発生や化学反応を起こしません。
- HBr、HClなどの強腐蝕性特殊ガス中に含まれる水分を、条件により最大100PPB(分析装置の検出限界)以下まで除去します。
- 小型・軽量モデルGP-05はフィルターサイズ同様の小型タイプ(面間84mm)で、120gと軽量です。
- ガス種により、350℃から400℃のベーキングによって再活性処理をすれば、完全寿命まで繰り返しご使用になれます。
| 精製能力 | 個々の不純物:最大1PPB以下 出口側不純物合計:最大10PPB以下 (条件による) |
|---|---|
| 材質 | ハウジング:SUS316L 電解研磨 R max 0.7μm以下 フィルターメディア:SUS316L 精製剤:メタル・ゲッター、他 |
| 流量範囲 | 0.5LPM~20LPM(モデル/圧力条件によって異なります) |
| 最高使用圧力 | 0.97MPa(140.65PSIG) |
| 使用温度 | 室温又は350~400℃(用途により異なります) |
| 外部漏量 | 2×10-11Pa・m3/sec以下 |
| 継手 | 1/4"、3/8" VCRR、SwagelokR |
| 形式 | A(mm) | B(mm) | C(mm) | 推奨流量(邃錀/min) | 寿命(流量)※ |
|---|---|---|---|---|---|
| GP-05 | 84 | 38 | 25 | 0.1~0.5 | 約1年間(0.2LPMの時) |
| GP- 1 | 84 | 38 | 38 | 0.1~1.0 | 約1年間(0.5LPMの時) |
| GP- 2 | 122 | 76 | 38 | 0.2~2.0 | 約1年間(1LPMの時) |
| GP- 5 | 160 | 114 | 51 | 1~5 | 約1年間(3LPMの時) |
| GP-10 | 224 | 178 | 51 | 2~10 | 約1年間(5LPMの時) |
| GP-20 | 317 | 272 | 63 | 5~20 | 約1年間(10LPMの時) |
※上記破過は入口(一次側)からの不純物合計が10PPMと仮定した場合の値で、この間再活性処理が必要となります。

| 仕様 | 精製対象ガス | 精製不純物 | 精製保証値 | |
|---|---|---|---|---|
| 不活性ガス | He, Ne, Ar, Kr, Xe | H2O,O2,CO2 | 1 PPB以下 (室温にて) | |
| H2O,O2,CO,CO2,N2,THC | 1 PPB以下 (加熱時) | |||
| 出口(二次)側不純物合計 | 10 PPB以下 ( 8LOGS ) | |||
| 窒素ガス用 | N2 | H2O,O2,CO2 | 1 PPB以下 (室温にて) | |
| H2O,O2,CO,CO2,THC | 1 PPB以下 (加熱時) | |||
| 水素ガス用 | H2,Ar/H2,N2/H2 | H2O,O2,CO2 | 1 PPB以下(室温にて) | |
| H2O,O2,CO,CO2,N2,THC | 1 PPB以下 (加熱時) | |||
| ハイドライドガス用 フロンガス用 |
SiH4,Si2H6,SiH2Cl2,AsH3,PH3,NH3,B2H6,H2S GeH4,Ge2H6,CH4,CF4,CCl4,SF6 |
H2O,O2,CO2 | 10 PPB以下(室温にて) | |
| 酸素ガス用 (酸素ガスピューリファイヤーにはシングルタイプ、 デュアルタイプの2種類があります。) |
O2,Air | シングル | H2O | 100 PPB以下(室温にて) |
| CO2 | 10 PPB以下(室温にて) | |||
| デュアル | H2O | 100 PPB以下(加熱時) | ||
| H2,CO,CO2 | 10 PPB以下(加熱時) | |||
| 腐蝕性ガス用 | HBr, HCl, BCl3,BF3,Cl2 | H2O | 100 PPB 以下(室温にて) | |
※腐蝕性ガスの純度分析にはFT-IRを使用しました。(検出限界100PPB)
※上記保証値は、入口側不純物合計 10 PPM 以下の場合



